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校準納米位移臺（nanopositioning stage）的移動范圍是確保其位移精度、重復性和線性響應的關鍵步驟。以下是完整的校準流程與注意事項，不含表格或圖標，僅保留清晰的文字說明：
一、為什么需要校準
出廠默認標定值可能不適用于你當前的工作環境（溫度、負載等）。
長時間使用后可能出現漂移或非線性偏差。
外接控制器或軟件接口更新后需要重新匹配精確位移量。
二、常見校準方式
1. 使用干涉儀或激光測距儀
原理：通過高精度位移傳感器（如 Michelson 干涉儀）測量真實移動距離。
步驟：
將干涉儀反射鏡固定在位移臺上。
輸入一段控制信號（如移動 10 微米）。
讀取實際測得的位移值。
若有偏差，調整比例因子（scale factor）或控制系統的轉換參數。
2. 使用標準光柵尺或編碼器標尺
原理：通過帶有已知分辨率的光柵尺檢測實際位移。
步驟：
將光柵尺貼合在運動路徑上。
控制位移臺在單位步長下運動，并記錄實際移動數據。
計算每步響應是否線性一致。
校準控制軟件中的轉換比例。
3. 使用已知結構樣品（如 SEM、AFM 或光學顯微鏡下的樣品）
適用于科研環境。
方法：
讓位移臺移動到兩個微結構之間（間距已知）。
比較軟件記錄的位移值與實際間距。
反復測試后修正系統中的偏移量或非線性系數。
三、軟件校準流程（以常見控制軟件為例）
進入軟件設置界面，查找“軸校準”或“移動范圍標定”功能。
輸入已知的標準步長，例如移動 100 個控制單位。
讀取實際測量值（通過干涉儀、光學尺或標準樣）。
軟件根據差異自動調整校準系數。
保存設置，重新測試以確認是否精確。