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判斷納米位移臺是否需要重新校準，通?？梢詮囊韵聨讉€方面入手：
1. 定位精度出現下降
如果你發現以下現象，可能說明校準已經偏離標準：
位移臺移動到某一預設坐標點后，實際位置偏差超出規格要求（比如超過納米級誤差容限）；
多次移動到同一點，重復定位的偏差變大；
掃描圖像出現明顯錯位或畸變，尤其在大范圍掃描或多次返回同一位置時。
2. 反饋位置與實際位置不符
當使用閉環傳感器（如電容傳感器、光學編碼器）進行反饋控制時，如果控制軟件顯示的位置與顯微鏡、干涉儀等實際觀測位置不一致，說明可能需要重新校準。
3. 環境或系統發生變化
下列情況發生后建議進行校準：
位移臺長期未使用或經過長時間運行；
系統經歷過搬運、震動、溫度變化、潮濕等外界干擾；
更換了控制器、傳感器或樣品托盤；
固件或軟件升級之后，位移模型發生變化。
4. 系統自檢提示或誤差累積
有些控制系統（如使用數字信號處理器的控制器）會在初始化或運行中提供自檢誤差報告或校準建議；
如果你運行定位路徑后，累計誤差隨路徑延長而變大，也可能是因為線性比例、偏移、非線性補償失效，需要重新標定。
5. 定期維護計劃中規定的周期
高精度位移系統一般建議定期校準（例如每半年或一年一次），尤其在對結果精度有嚴格要求的應用場景（如納米定位、掃描成像、微納加工等）中更為重要。