壓電二維納米位移臺性能優勢
壓電二維納米位移臺 XYMF-133-lODA，為長行程納米平移臺，具有分辨率高，行程大，帶有高精度及高分辨率的位置反饋，操作簡單，定位糟準，能在真空下使用等優點，其中XYMF-133-100A平移臺可實現在XY二維空間上的準確定位，可應用于需要納米精度運動操作及定位的各個領域。
壓電二維納米位移臺使用壓電陶瓷驅動，運動無需...
壓電旋轉納米位移臺RF系列應用領域
2022-12-28行業資訊
壓電旋轉納米位移臺RF系列，通過壓電陶瓷驅動，具有定位準確，位置保持性好，自帶鎖緊，能360°旋轉等優點。在增強位置反饋模塊后，可實現高精度及高分辨率的開環/閉環控制，適用于大氣及真空環境下工作。
壓電旋轉納米位移臺RF系列應用：
1、電子顯微鏡原位納米探針臺。
2、半導體芯片檢測。
3、光刻機工件臺。
4、微生...
壓電納米位移臺優勢有哪些？
2022-12-27行業資訊
壓電驅動納米位移臺，使用壓電陶瓷作為運動促動元件，可以在數百毫米范圍內實現亞納米級別的Z小步長，從而解決了傳統納米臺行程小而微米電動臺分辯精度不高的問題。在科研市場、半導體市場、先進制造業、生物醫藥行業、光學、通信等行業有廣泛應用。
壓電納米位移臺優勢：
1、結構緊湊，高剛性。
2、高精度柔性鉸鏈導向...
等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術基礎
今天卓聚科技小編來給大家介紹一下等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備的技術基礎。
1、等離子體增強化學氣相沉積的主要過程
等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）技術是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備薄膜...
什么是等離子體增強化學氣相沉積系統？
等離子體增強化學氣相沉積(plasma enhanced chemical vapor deposition，PECVD)
等離子體增強化學氣相沉積-制取方法
在沉積室利用輝光放電使其電離后在襯底上進行化學反應沉積的半導體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法。等離子體增強化學氣相沉積是：在化學氣相沉積中，激發氣體，使其產生低溫等離子體，增強反應物...
壓電納米位移臺廠家-位移臺價格
壓電納米位移臺是通過壓電馬達驅動控制的電動位移臺，不同于傳統的步進馬達，直線電機，電磁馬達等驅動形式，壓電馬達是利用逆壓電效應的原理，通過壓電陶瓷在電場作用下（一般在共振狀態下）產生的形變，由摩擦耦合推動滑臺動子的運動，從而驅動平臺的位置移動。壓電納米位移臺斷電時保持自鎖，從而不消耗能量，不發熱...